晶圆封装DAF膜

2021-09-06 13:49:23

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详细介绍：

DAF切割胶带（DAF膜）

要了解芯片封装DAF膜（半导体切割胶带），首先得先从半导体晶圆开始

1.什么是半导体晶圆?

半导体晶圆（晶片）的直径为4到10英寸（10.16到25.4厘米）的圆盘，在制造过程中可承载非本征半导体。它们是正（P）型半导体或负（N）型半导体的临时形式。硅晶片是非常常见的半导体晶片，因为硅是最流行的半导体，这是由于其在地球上的大量供应。半导体晶圆是从锭上切片或切割薄盘的结果，它是根据需要被掺杂为P型或N型的棒状晶体。然后对它们进行刻划，以用于切割或切割单个裸片或方形子组件，这些单个裸片或正方形子组件可能仅包含一种半导体材料或多达整个电路，例如集成电路计算机处理器。

划刻并切割用于生产电子元件（如二极管，晶体管和集成电路）的半导体晶圆，以生产小晶粒。这说明了为什么芯片具有类似图案的XY形成，这些图案由芯片承载并且实际上包含多达整个电子电路。在生产线的后期，这些管芯将安装在引线框架上，准备将小的金属线从管芯粘结到集成电路的引脚或引脚中。

2. 如何标识和测试晶圆？

在将半导体晶圆切割成子部件之前，有机会使用自动步进测试仪来测试它所携带的众多芯片，这些测试仪将测试探针顺序放置在芯片上的微观端点上，以激励，激励和读取相关的测试点。这是一种实用的方法，因为有缺陷的芯片不会被封装到最终的组件或集成电路中，而只会在最终测试时被拒绝。一旦认为模具有缺陷，墨水标记就会渗出模具，以便于视觉隔离。典型的目标是在100万个管芯中，少于6个管芯将是有缺陷的。还需要考虑其他因素，因此可以优化芯片恢复率。

质量体系确保模具的回收率很高。晶圆边缘上的裸片经常会部分丢失。芯片上电路的实际生产需要时间和资源。为了稍微简化这种高度复杂的生产方法，不对边缘上的大多数模具进行进一步处理以节省时间和资源的总成本。

半导体晶圆的光刻和键合技术以及应用设备，一般使用：EVG光刻机和键合机。

daf膜(dieattachfilm，晶片黏结薄膜)是在芯片封装过程中常用到的关键材料。daf膜用于在芯片封装过程中雷射切割时，晶片可一起切割与分离，进行剥离，使切割完后的晶片(die)，都还可粘着在薄膜上，不会因切割而造成散乱排列。晶片粘接过程中，通过吸嘴吸片后，通过daf膜粘接在基板上。

现有的daf膜包括一层胶面、二层胶面和中间层高导热树脂层，一层胶面与芯片粘接，二层胶面与基板粘接。在装片过程中手设备、治具等因素的影响，很难控制芯片保持水平。例如： DAF膜,半导体切割胶带,晶圆切割胶带如图所示，由于吸嘴吸片后，芯片22通过daf膜11粘接在基板33上，在装片过程中，吸嘴与芯片局部接触时施压力f给芯片导致芯片受力不均匀，导致芯片和daf膜之间发生倾斜，影响芯片封装质量。深圳市文鸣兴科技有限公司目前生产加工的DAF胶带在很多半导体加工生产商中赢得了良好的信誉，不只是价格在国际上有优势，更重要的是使用中比其他国际大品牌更稳定。

切割用粘着胶带（晶圆胶带、半导体晶圆胶带、DAF胶带）的制造方法以及半导体芯片的制造方法,即使在贴付于半导体元件用基板的活性面时,也易于剥取半导体芯片.该切割用粘着胶带(1)具有基材(2)和在基材(2)的至少一个表面侧设置的粘着剂层(3),粘着剂层(3)至少具备具有羟基,羧基中的任一种作为官能团的丙烯酸酯系共聚物,重均分子量Mw为500以上6000以下且分子中具有3个以上放射线聚合性碳碳双键并且羟值为3mg KOH/g以下的放射线固化性低聚物,以及与丙烯酸酯系共聚物所具有的官能团反应的交联剂.

备注：资料详见附件！

AWP3 series TDS(20190918).pdf